光电子微纳制造工艺平台

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        光电子微纳制造工艺平台位于武汉光电国家实验室E区，始建于2005年9月。全部净化间及空调、动力、纯水等系统于2006年6月完成建设任务并交付国家实验室使用。


        光电子微纳制造工艺平台所属净化区域总使用面积约1900多平方米，分一、二两层，其中一层约1050平方米，二层约630平方米，一次更衣室、物料间、化学品与气瓶间、仓库等非净化面积约240平方米。

 
        净化等级最高为5级（百级），最低为8级（十万级）。其中百级房间二间，面积为136平方米；千级房间八间，面积为439平方米；万级房间十间，面积为639平方米；十万级主要为二次更衣室及技术夹道，面积为463平方米。


        净化空调系统能满足工艺实验所需的温度、湿度、压差与洁净度要求。其中：温度控制范围22±1℃，湿度5-7月份50-65%，其余时间45±5%。压差能根据设定值进行控制，洁净度能满足设计要求。另外，因MOCVD房间为全新风系统，三级负压控制，在5-7月份湿度偏大，为55-75%。


        光电子微纳制造工艺平台中能提供满足工艺要求的380V、220V、110V等电压等级的交流用电。能提供产水量为2.0吨/小时，电阻率为18.0MΩ.cm以上的纯水。平台中设备冷却水系统采用恒压供水，能提供压力为0.65MPa以下，水温为20±1℃并可进行调节的洁净冷却水，水过滤精度为10μ。当意外停电时，EPS系统能保证设备冷却水继续供应30分钟以上。


        光电子微纳制造工艺平台中能提供满足工艺要求的多种基本气体。如：露点温度为-40℃的干燥压缩空气（CDA）；纯度99.999%的普通氮气（GN2）；纯度99.999999%的高纯氮气（PN2）；纯度99.999%、出口压力1.2 MPa以下的氢气（H2）。同时，平台中还装有真空系统，能满足工艺实验所需的真空要求。


        光电子微纳制造工艺平台中安装有简易酸碱废水处理系统，酸碱废水经过中和处理后排入生活废水管道中。有机废水目前暂无处理装置。


        光电子微纳制造工艺平台现有设备共计135台（套），其中主设备36台（套），辅助设备99台（套），其中利用“985工程”二期建设资金所购设备费用已近4,100万元。