首页 > 仪器设备 > 中心本部 > 光电子微纳制造工艺平台
80nm步进重复扫描光刻机
基本信息
- 设备型号：Nikon NSR-307E
技术指标
缩小比：1：4
投影透镜NA：0.85
光源：193nm ArF 准分子激光器
最小线条尺寸：<80nm
对准精度：好于16nm
曝光面积：26mm*33mm
基片尺寸：200mm，2寸，4寸，以及不规则小片
产量：>160片/小时
应用范围
高精度光刻，可用于产品研发和大规模生产。