电子束曝光系统

基本信息

设备型号：Vistec EBPG5000+ES
生产厂家：Vistec（Leica）荷兰

技术指标

加速电压：50kV，100kV
电子束最小束斑：2.2nm
加工精度：<8nm线条
拼接精度：<20nm@250微米写场@100kV
写场大小：256*256微米²@100kV，409*409微米²@50kV
电子束流：0.1nA至100nA
直写样片尺寸：2寸，3寸，4寸，50mm，100mm，150mm（可扩展），非标准小片
光刻掩模板：2寸，3寸，4寸，5寸（可扩展），6寸（可扩展）

衬底材料：各种表面平整的固体衬底材料。

应用范围

高精度掩模板制作，纳米图形制作，纳米压印模板制作等各种需要纳米级精度图形的产生。