电子束蒸发镀膜机

仪器介绍

1.新型半导体光电器件金属电极的制备；
2.一维纳米器件欧姆接触和介质膜的制备；
3.纳米催化剂颗粒的薄膜沉积；
4.可蒸发Au、Cr、Ti、Ni、Al、Pt、Zn、Ge、Au-Ge、Mo等金属，可镀ZnO, ZnS, MgF₂化合物。

基本信息

设备型号：EB-500S
生产厂家：韩国ALPHA-PLUS Co.,Ltd.公司

技术指标

1.正常工作真空度：≤6x10^-5Pa；

2.旋转基片:可旋转， 转速0-20rpm, 基片加热最高设计温度到300 ?C，精度±1 ?C。

3.电子枪及电源 :270°E型电子枪及高压电源，电子枪功率（6KW）

4.坩埚 :底座设计6个坩埚，容量约为7CC，配备12个Al2O3衬锅，可容纳Au、Cr、Ti、Ni、Al、Pt、Zn、Ge、Au-Ge、Mo、Mg中的四种以上元素供蒸发，可镀ZnO, ZnS, MgF2化合物。

5.膜厚监控仪与厚度均匀性:在2英寸范围内不大于±2%的厚度均匀度偏离，在2-4英寸范围不大于±5%的厚度均匀度偏离.

6. 3路工作气路（Ar,N₂，O₂）

 

电学指标：

    3相4线，100A