SEM/FIB双束系统

仪器设备

SEM/FIB双束系统

仪器介绍

SEM/FIB双束系统主要用于在金属、半导体、电介质、多层膜结构等固体样品上制备微纳结构。同时，配备纳米机械手之后，可以定点制备TEM样品，此仪器是探索决定物质表观特性微观本质的强有力工具。

基本信息

技术指标

电子像   高真空  1.2nm@30kV (二次电子)
                             2.5nm@30kV (背散射电子)
                             2.9nm@1kV (二次电子)
               低真空  1.5nm@30kV (二次电子)
                            2.5nm@30kV (背散射电子)
                             2.9nm@3kV (二次电子)
            环境真空 1.5nm@30kV (二次电子)

离子像 5nm@最佳工作距离 7nm@束交叉点

电子束束流：200nA；离子束束流：65nA

超低样品室真空度（最高4000帕）可以在不同相对湿度（可达100%）和温度（最高1500度）下进行实时、动态的观察。

超强的扩展性，可加装能谱、波谱、EBSD、阴极荧光、冷台、热台等。

应用范围

FEI的Quanta™ 3D FEG是一款高分辨，具有低真空功能的针对二维和三维材料表征及分析的多用途SEM/FIB双束系统。创新的电子和离子光学系统结合Quanta独特的环境扫描电镜操作模式能大大的扩展实验能力，提供更好，更快，更全面的材料表征、分析、以及样品制备。除了常规的电子束和离子束成像、分析外，其主要应用范围还包括快速大面积离子束切割加工样品以观察和分析样品表面以下的组织结构、透射样品的制备、三维重构以揭示样品内部的精细结构如夹杂物等等。

能力

仪器特色
电子束的大束流（200nA）完全能满足苛刻的分析测试调节，如能谱、EBSD、波谱、以及阴极荧光等。
离子束的大束流（65nA）能大大提升样品加工速度。
离子束出色的低电压性能能保证透射样品制备时损伤层最小。
独特的辅助性气体方案能提高样品加工速度和避免二次沉积。
提高表征能力，超低样品室真空度（最高4000帕）可以在不同相对湿度（可达100%）和温度（最高1500度）下进行实时、动态的观察。
超强的扩展性，可加装能谱、波谱、EBSD、阴极荧光、冷台、热台等。